炒股就看金麒麟分析師研報，光刻權威，膠領專業(yè)，域國及時，新突全面，光刻助您挖掘潛力主題機會！膠領

　　每經AI快訊，域國光刻技術是新突推動集成電路芯片制程工藝持續(xù)微縮的核心驅動力之一。近日，光刻北京大學化學與分子工程學院彭海琳教授團隊及合作者通過冷凍電子斷層掃描技術，膠領首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的域國微觀三維結構、界面分布與纏結行為，新突指導開發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的光刻產業(yè)化方案。相關論文近日刊發(fā)于《自然·通訊》。膠領

新浪聲明：此消息系轉載自新浪合作媒體，域國新浪網登載此文出于傳遞更多信息之目的，并不意味著贊同其觀點或證實其描述。文章內容僅供參考，不構成投資建議。投資者據此操作，風險自擔。